产品规格:RPD专用铟.锡氧化物（ITO）靶
1.产品主要用途
RPD蒸镀制备透明导电膜
2.产品的物理及化学特性
2.1 化学式：In2O3/SnO2
2.2外 观：绿色
2.3 晶粒度：5~15μm
2.4相对密度：60%±2％
2.5杂质含量：≤500ppm
3.产品检测方法
3.1晶粒度：扫描电镜（SEM）观察；
3.2纯度：ICP—AES分析测试杂质含量；
3.3 密度：手测法（千分尺、分析天平）；
团队发展历史
2006年，武汉高纯金属材料技术服务中心，在3位金属材料博士的努力和各界朋友鼎力支持下在武汉成立，圆靶IZO，宗旨是高纯金属材料研发生产技术交流，促进合作。
2007年，靶材IZO，新能源技术交流服务中心成立。
2010年，为了适应市场需要，武汉鑫融新材料有限公司成立。
2010年，公司目标致力于成为国内专业的高纯金属材料和新能源材料的“精细功能材料服务商”。
2013年，公司走出国门，开展与国外高新技术企业交流合作，提升“中国制造”技术含量。
2014年，公司自主开发、经营几十种高纯金属材料及其化合物。产品有碲、铟、镓、锑、镉、硒、铋、锗、锡等各种稀土、过渡金属材料单质及其化合物、靶材，纯度为99%-99.99999%。
存储用
在储存技术方面，高密度、大容量硬盘的发展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，IZO，CoF ~Cu多层复合膜是如今应用广泛的巨磁阻薄膜结构。磁光盘需要的 T b F e C o合金靶材还在进一步发展，IZO低密度小圆靶，用它制造的磁光 盘具有存储容量大，寿命长，可反复无接触擦写的特 点。如今开发出来的磁光盘，具有 T b F e C o / T a和 T b F e C o / Al 的 层复合膜结构， T bF eCo/AI结构的Kerr 旋转角达到5 8，而T b F e Co f F a 则可以接近0.8。经过研究发现， 低磁导率的靶材高交流局部放电电压 l 抗电强度。
IZO_IZO低密度小圆靶_武汉鑫融(优质商家)由武汉鑫融新材料有限公司1提供。行路致远，砥砺前行。武汉鑫融新材料有限公司1（bedance.cn.vlongbiz.com/）致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，更矢志成为化工产品较具影响力的企业，与您一起飞跃，共同成功!
