产品规格:铟.锡氧化物（ITO）低密度小圆靶
1.产品主要用途
蒸镀制备ITO导电膜
2.产品的物理及化学特性
2.1 化学式：In2O3/SnO2
2.2 外 观：绿色
2.3 晶粒度：5~15μm
2.4相对密度：60%±2％
2.5杂质含量：≤500ppm
3.产品检测方法
3.1晶粒度：扫描电镜（SEM）观察；
3.2纯度：ICP—AES分析测试杂质含量；
3.3 密度：手测法（千分尺、分析天平）；
各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。
溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。分类
碲99.99%-99.999%-99.9999%-99.99999%
镉 99.999%-99.9999%-99.99999%
锌 99.999%-99.9999%-99.99999%
硒 99.99%-99.999%-99.9999%
铟 99.999%-99.9999%
锑 99.99%-99.999%
铋 99.999%-99.9999%
锗 99.999%-99.9999%
镓 99.99%-99.999%
