产品规格:铟.锡氧化物（ITO）高密度小圆靶
1.产品主要用途
蒸镀制备ITO导电膜
2.产品的物理及化学特性
2.1 化学式：In2O3/SnO2
2.2外 观：黑色
2.3 晶粒度：5~15μm
2.4相对密度：≥99%
2.5 电阻率：< 1.0×10-4mΩ·cm
2.6热胀系数：5.8×10-3K-1
2.7杂质含量：≤500ppm
3.产品检测方法
3.1晶粒度：扫描电镜（SEM）观察；
3.2纯度：ICP—AES分析测试杂质含量；
3.3 密度：排水法；
生产销售：铟粉（用作化合物、半导体、补牙用等）
铟丝（用于电子行业，靶材粉体，高科技密封材料等）
铟箔（用于电子行业、导体的散热，靶材，高科技密封材料）
铟珠（用于化合物半导体、高纯合金及半导体材料的掺杂剂等）
铟锡、铟银合金丝（用于真空密封材料或用来制作假牙和装饰品）
锡丝（ 用于真空镀膜 焊接材料 密封材料）铋锡合金珠（不含铅）
铋粉（用于制取铋制品和铋合金等） 铋珠（用于自动关闭器）
铋针（用于化合物）二氧化碲（用作电子工业中半导体的材料等）
分类
根据形状可分为长靶，方靶，圆靶，异型靶
根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等
根据应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材、其他靶材
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