电沉积纳米晶Ni
电沉积薄膜具有典型的柱状晶结构，但可以用脉冲电流将其破碎。精心地控制温度、pH值和镀池的成份，小金属铋，电沉积的Ni晶粒尺寸可达10nm。但它在350K时就发生反常的晶粒长大，小金属，添加溶质并使其偏析在晶界上，以使之产生溶质拖拽和Zener粒子打轧效应，可实现结构的稳定。例如，添加千分之几的磷、流或金属元素足以使纳米结构稳定至600K。电沉积涂层脉良好的控制晶粒尺寸分布，表现为Hall-Petch强化行为、纯Ni的耐蚀性好。这些性能以及可直接涂履的工艺特点，使管材的内涂覆，尤其是修复核蒸汽发电机非常方便。这种技术已经作为 EectrosleeveTM工艺商业化。在这项应用中，微合金化的涂层晶粒尺寸约为 100nm，小金属厂家，材料的拉伸强度约为锻造Ni的两倍，延伸率为15%。晶间开裂抗力大为改善。
更进一步，电导率会经历能量的量子化：例如，通过纳米金属材料的金属纳米线的电子能量只会具有有离散值乘以朗道常数G = （这里 e是电子电量，h是普朗克常数)。电导率由此被表示成通过不同量子能级通道的输运量的总和。线越细，小金属锑，能够通过电子的通道数目越少。把纳米金属材料的金属纳米线连在电极之间，科学家可以研究纳米金属材料的金属纳米线的电导率。通过在拉伸时测量纳米金属材料的金属纳米线的电导率，科学家发现：当纳米金属材料的金属纳米线长度缩短时，它的电导率也以阶梯的形式随之缩短，每阶之间相差一个朗道常数G。
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