鑫融新材料(图),稀有金属锑,稀有金属

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鑫融新材料(图),稀有金属锑,稀有金属

Yoshizawa等报道了快淬的FeCuNbSiB非晶在初生晶化后,稀有金属锑,软磁性能良好,可与被莫合金和最.好的Co基调合金相媲美,且饱和磁化强度很高(Bs约为1.3T)。其典型成份为Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9称为'...


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Yoshizawa等报道了快淬的FeCuNbSiB非晶在初生晶化后,稀有金属锑,软磁性能良好,可与被莫合金和最.好的Co基调合金相媲美,且饱和磁化强度很高(Bs约为1.3T)。其典型成份为Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9称为'Finemet'。性能最.佳的结构为a-Fe(Si)相(12~20nm)镶嵌在剩余的非晶格基体上。软磁性能好的原因之一被认为是铁磁交互作用。单个晶粒的局部磁晶体各向异性被有效地降低。其二是晶化处理后,形成富Si的a-Fe相,他和磁致伸缩系数ls下降到 2′10-6。继 Finemet之后, 90年代初又发展了新一族纳米晶软磁合金 Fe-Zr-(Cu)-B-(Si)系列(称为'Nanoperm')。退火后,这类合金形成的bcc相晶粒尺寸为10~20nm,饱和磁化强度可达1.5~1.7T,磁导率达到48000(lkHz)。铁芯损耗低,例如,Fe86Zr7B6Cu1合金的铁芯损耗为66mW·g-1(在 1T, 50Hz条件下),比目前做变压器铁芯的 Fe78Si9B13非晶合金和 bccFe-3.5%Si合金小45%和 95%,实用前景非常诱人。




电沉积纳米晶Ni

  电沉积薄膜具有典型的柱状晶结构,但可以用脉冲电流将其破碎。精心地控制温度、pH值和镀池的成份,稀有金属,电沉积的Ni晶粒尺寸可达10nm。但它在350K时就发生反常的晶粒长大,添加溶质并使其偏析在晶界上,以使之产生溶质拖拽和Zener粒子打轧效应,可实现结构的稳定。例如,稀有金属铋,添加千分之几的磷、流或金属元素足以使纳米结构稳定至600K。电沉积涂层脉良好的控制晶粒尺寸分布,表现为Hall-Petch强化行为、纯Ni的耐蚀性好。这些性能以及可直接涂履的工艺特点,稀有金属,使管材的内涂覆,尤其是修复核蒸汽发电机非常方便。这种技术已经作为 EectrosleeveTM工艺商业化。在这项应用中,微合金化的涂层晶粒尺寸约为 100nm,材料的拉伸强度约为锻造Ni的两倍,延伸率为15%。晶间开裂抗力大为改善。



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